《唐卡艺术:传承与创新》藏汉对照版。 四川美术出版社供图
《唐卡艺术:传承与创新》藏汉对照版是以中华民族优秀传统文化中弥足珍贵的非物质文化遗产——唐卡为研究对象,从实践到理论进行了全面整理与归纳。该书以宏观视角详细论述了唐卡的历史起源、发展脉络、流派演变、内容传承及技法仪轨,还从传承与创新的视角出发,将唐卡艺术在当代的文化保护、创作创新和周边影响做了深入浅出的梳理,并集合不同时期、不同地域、不同风格的众多珍贵图像与名家名作,全方位呈现出唐卡艺术的博大与瑰丽。
《唐卡艺术:传承与创新》藏汉对照版由资深唐卡研究学者、一级美术师刘忠俊先生撰写,并由藏文翻译专家白玛才仁先生翻译。该书是近年来由国家民族文字项目出版发行的精品书籍,填补了同类书籍中既有传统与创新,又是藏汉双语版的空白,给读者带来一场知识与视觉的盛宴。
《唐卡艺术:传承与创新》藏汉对照版。 四川美术出版社供图四川美术出版社曾于2017年出版发行了《唐卡艺术——传承与创新》汉文版。汉文版获得了“第二十七届金牛杯全国优秀美术图书评比”铜奖。此次出版的藏汉对照版是在汉文版“唐卡溯源”“唐卡大观”“风格探微”“分野创新”四篇章基础上,对全书进行了重新增补和优化。
据了解,随着社会经济文化的发展大潮,传承千年的唐卡绘画艺术早已走向了大众、也走向了世界。但关于唐卡艺术的理论著作太少,大众读者难以深入了解唐卡文化和审美,只能望画兴叹。因此,唐卡艺术相关著作的编撰及出版于这一优秀传统民族文化的继承与弘扬有重要意义。(完)
多光子非线性量子干涉首次实现 为新型量子态制备等应用奠定基础****** 科技日报合肥1月16日电 (记者吴长锋)记者16日从中国科学技术大学获悉,该校郭光灿院士团队任希锋研究组与国外同行合作,基于光量子集成芯片,在国际上首次展示了四光子非线性产生过程的干涉。相关成果日前发表在光学权威学术期刊《光学》上。 量子干涉是众多量子应用的基础,特别是近年来基于路径不可区分性产生的非线性干涉过程越来越引起人们的关注。尽管双光子非线性干涉过程已经实现了20多年,并且在许多新兴量子技术中得到应用,直到2017年,人们才在理论上将该现象扩展到多光子过程,但实验上由于需要极高的相位稳定性和路径重合性,一直未获得新进展。光量子集成芯片,以其极高的相位稳定性和可重构性逐渐发展成为展示新型量子应用、开发新型量子器件的理想平台,也为多光子非线性干涉研究提供了实现的可能性。 任希锋研究组长期致力于硅基光量子集成芯片开发及相关应用研究并取得系列重要进展。在前工作基础上,研究组通过进一步将多光子量子光源模块、滤波模块和延时模块等结构片上级联,在国际上首次展示了四光子非线性产生过程的相干相长、相消过程,其四光子干涉可见度为0.78。而双光子符合并未观测到随相位的明显变化,这同理论预期一致。整个实验在一个尺寸仅为3.8×0.8平方毫米的硅基集成光子芯片上完成。 这一成果成功地将两光子非线性干涉过程扩展到多光子过程,为新型量子态制备、远程量子计量以及新的非局域多光子干涉效应观测等应用奠定了基础。审稿人一致认为这是一个重要的研究工作,并给出了高度评价:该芯片设计精良,包含多种集成光学元件,如纠缠光子源、干涉仪、频率滤波器/组合器;这项工作推动了集成光子量子信息科学与技术研究领域的发展。 (文图:赵筱尘 巫邓炎) [责编:天天中] 阅读剩余全文() |